Бельгийская imec (Interuniversity Microelectronics Centre), одна из крупнейших мировых R&D-компаний, сообщила о «нескольких прорывах», достигнутых в лаборатории, где она работает вместе с ведущим производителем оборудования для выпуска чипов, нидерландской ASML Holding, с помощью новейшей машины ASML для изготовления чипов, пишет Reuters.
С применением новой технологии, известной как «High NA», удалось, по сообщению imec, изготовить микросхему столь же миниатюрную или даже меньше, чем лучшие на сегодняшний день коммерческие образцы.
Предполагается, что производители микросхем, используя High NA, на ближайшие несколько лет продлят действие закона Мура.
NA, как поясняет ASML, это один из двух параметров, от которых зависит плотность логических элементов на единице площади микросхемы. Первый параметр – длина волны света (в ультрафиолетовом диапазоне), который формирует логическую схему на поверхности кристалла. Чем длина волны меньше, тем точнее можно эту схему «прочертить». Возможностью регулировать этот параметра ASML в настоящее время не располагает.
Второй параметр, NA (numerical aperture), влияет на, грубо говоря, размер точки, в которой луч соприкасается с поверхностью будущей микросхемы. High NA уменьшает эту точку в 1,7 раза, и это увеличивает плотность транзисторов на кристалле в 2,9 раза – это очень серьёзный технологический прорыв.
Заказы на машины, применяющие High NA, поступили от Intel, TSMC, Apple, Samsung Electronics, SK Hynix, Micron.
Источник: industry-hunter.com
